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scrubber尾汽處理系統
半導體工藝廢氣處理方式依據廢氣處理的特性，在處理可分為四種處理方式∶ 1、水洗式(處理腐蝕性氣體) 2、氧化式(處理燃燒性，毒性氣體)3、吸附式(干式)(依照吸附材種類處理對應之廢氣) 4、等離子燃燒式(各類型廢氣皆可處理)Scrubber尾氣處理裝置可處理氣體種類包括半導體、液晶以及太陽能等行業中蝕刻制程與化學氣相沉積制程中使用的特氣，主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、 TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等.
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